フォトレジスト/ポリイミドを使用した二重層マスク法によるチタン製微小構造体の作製

カテゴリ：部門大会

論文No：11A3-PS-64

グループ名：【E】第42回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日：2025/11/3

タイトル(英語)：Fabrication of Titanium Microstructures Using Double-Layered Mask Method with Photoresist/Polyimide

著者名：*五十嵐 蓮（新潟大学）, 髙野 雄太（新潟大学）, 秦 夷之（新潟大学）, 寒川 雅之（新潟大学）, 安部 隆（新潟大学）

著者名(英語)：

キーワード：チタンMEMS,マイクロスイッチ,二重層マスク法,ポリイミド,電解エッチング,Titanium MEMS,Microswitch,Double-layered mask method,Polyimide,Electrolytic etching

要約(日本語)：本研究では，二重層マスクを用いた電解エッチングにより微小構造体の作製を行った。レジスト層とポリイミドをマスクとして用いることにより，マイクロスイッチの微小凸部の作製に成功した。本構造はチタン製のため機械衝撃や腐食耐性の向上が期待される。また，ポリイミドはその耐久性から加工後剥離をせずに永久構造として活用できるため，アクチュエータなどのチタン製マイクロデバイスの開発への応用が期待される。

要約(英語)：In this study, we report a method for fabricating of titanium microstructure by electrolytic etching using double-layered mask method. By using a resist layer and a polyimide layer as the mask, a micro protrusion in microswitch was successfully fabricated.

PDFファイルサイズ：313Kバイト