ニッケル薄膜の熱処理による膜応力調整の検討

カテゴリ：部門大会

論文No：11A3-PS-74

グループ名：【E】第42回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日：2025/11/3

タイトル(英語)：Study on film stress adjustment by heat treatment of nickel thin film

著者名：*田中 勝（鶴岡工業高等専門学校）, 酒巻 天女（鶴岡工業高等専門学校）, 長坂 慶大（山形大学）, 峯田 貴（山形大学）

著者名(英語)：

キーワード：たわみ調整,熱処理,Ni薄膜,内部応力,デュアルAFMカンチレバー,Deflection adjustment,Heat Treatment,Ni thin film,Internal Stress,Dual AFM cantilever

要約(日本語)：AFMカンチレバーをデュアル構造化して初期変位を合わせ込むために，積層薄膜の内部応力による反りの制御を目指し，比較的低い500℃以下の温度域における短時間の熱処理におけるNi薄膜の結晶化と緻密化に伴う面内応力の変化と膜厚方向の応力分布による反りのモーメントの変化を分離して評価した。200-500℃の5 min以内の熱処理で（200-400 MPaの）圧縮の面内応力が生じ、モーメントは不連続に増減することがわかった。

要約(英語)：To match the initial displacement of dual-structured-AFM cantilevers, heat treatment effect on the change　in-plane film stress and the moment due to the stress distribution in the thickness direction in a Ni thin film were individually evaluates. Both in-plane stress and deflectional moment were changed by the heat treatment at 200-500 deg within 5 min.

PDFファイルサイズ：352Kバイト