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液浸レーザ側壁ドーピングを用いたピエゾ抵抗型力センサ

液浸レーザ側壁ドーピングを用いたピエゾ抵抗型力センサ

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カテゴリ:部門大会

論文No:11P2-D-3

グループ名:【E】第42回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日:2025/11/3

タイトル(英語):Laser-based fabrication of piezoresistive force sensor using liquid immersion laser sidewall-doping

著者名:*中島 利八郎(慶應義塾大学), 岡本 有貴(産業技術総合研究所), 菅 哲朗(電気通信大学), 竹井 裕介(産業技術総合研究所), 高橋 英俊(慶應義塾大学)

著者名(英語):

キーワード:ピエゾ抵抗型センサ,側壁ドーピング,レーザドーピング,ファイバレーザ,レーザ加工,Piezoresistive sensor,Sidewall doping,Laser doping,Fiber laser,Laser processing

要約(日本語):本研究では、側壁ドープされたピエゾ抵抗を有するMEMS力センサのレーザ加工による製作手法を提案する。Siのセンサ構造とセンサ素子はどちらもレーザ加工によって形成される。特に、側壁ピエゾ抵抗層は、ドーパント溶液に浸したデバイス側壁に対してレーザを照射しドーピングすることで、直接パターニングする。試作したセンサはビーム幅が200 µmで、チップサイズが12mm×6 mmであった。本センサは20 µmの変位に対して線形に応答した。

要約(英語):This paper presents a laser-based fabrication method for a MEMS force sensor with a sidewall-doped piezoresistive layer. The supporting beam holding the probe was doped by laser irradiation while immersed in a dopant solution. Both the sensor structure and sensing element are formed entirely through laser processing. A prototype sensor was fabricated with a beam width of 200 µm and a chip size of 12 × 6 mm. The sensor exhibited a linear resistance response to a 20 µm displacement.

PDFファイルサイズ:2,719Kバイト

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