SiN製多孔膜を用いた血液脳関門モデルにおける共培養条件の検討

カテゴリ：部門大会

論文No：12P2-PS-110

グループ名：【E】第42回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日：2025/11/3

タイトル(英語)：Investigation of Co-culture Condition in a Blood-Brain Barrier Model Using a SiN Microporous Membrane

著者名：*中村 滉宏（九州工業大学）, 安田 隆 （九州工業大学）

著者名(英語)：

キーワード：多孔膜,窒化シリコン,血液脳関門,脳血管内皮細胞,経内皮電気抵抗,Porous membrane,Silicon nitride,Blood-brain barrier,Brain endothelial cell,Transendothelial electrical resistance

要約(日本語)：SiN製多孔膜の下面にペリサイトを培養した後に、膜上面に脳血管内皮細胞（RBEC）を培養することで血液脳関門（BBB）モデルを構築し、経内皮電気抵抗（TEER）を計測してバリア機能を評価した。ペリサイト播種からRBEC播種までの時間間隔を短縮することで、微小孔を通じたペリサイトの膜上面側への侵入を防ぐことができ、これにより共培養時のTEERがRBEC単培養時の約2倍に増加することが分かった。

要約(英語)：A BBB model was built by culturing pericytes beneath and RBECs above a SiN porous membrane. Shortening the interval between seeding prevented pericyte invasion through micropores, resulting in a co-culture TEER about twice as high as that of RBEC monoculture, indicating enhanced barrier function.

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