ハット&スカート犠牲層を用いた高アスペクト比金属ナノ構造めっきプロセス

カテゴリ：部門大会

論文No：12P2-PS-62

グループ名：【E】第42回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日：2025/11/3

タイトル(英語)：Electroplating Process for Metal-High Aspect Ratio Nano Structure (Metal-HARNS) with Hat & Skirt Dual Sacrificial Layers

著者名：*河井 哲子（東京大学）, 中村 友哉（東京大学）, 太田 悦子（東京大学）, 吉田 安紀彦（東京大学）, 三田 吉郎（東京大学）

著者名(英語)：

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要約(日本語)：

要約(英語)：

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