光MEMS圧力センサ用スパッタSiC光導波路の作製と評価

カテゴリ：部門大会

論文No：12P2-PS-70

グループ名：【E】第42回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日：2025/11/3

タイトル(英語)：Fabrication and evaluation of sputtered SiC optical waveguides for optical MEMS pressure sensors

著者名：*新國 広幸（東京工業高等専門学校）, 伊藤 浩 （東京工業高等専門学校）

著者名(英語)：

キーワード：SiC,光導波路,スパッタリング,MEMS,圧力センサ,SiC,Optical waveguide,Sputtering,MEMS,Pressure sensor

要約(日本語)：光MEMS圧力センサは光軸調整が不要で小型軽量、防爆性や無誘導性、高い信頼性が特長です。従来のガラスやポリマーに比べ、より優れた耐熱性と機械的強度を持つSiCを光導波路材料に用いることで、高温高圧環境下でも安全に計測が可能となります。本研究では、スパッタリング法とアニール処理で作製したSiCチャネル光導波路の伝搬特性等を評価し、導波光の確認に成功しました。今後はカットバック法で伝搬損失を詳細に評価します。

要約(英語)：An optical MEMS pressure sensor using SiC waveguides offers excellent durability and reliability in harsh environments. SiC films are fabricated by sputtering and annealing, enabling safe operation without flammable gases. The study demonstrates successful light guiding, with further loss evaluation planned for academic presentation.

PDFファイルサイズ：401Kバイト