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スパッタ成膜の有機薄膜を利用したQCM法による表面処理効果のモニタリング

スパッタ成膜の有機薄膜を利用したQCM法による表面処理効果のモニタリング

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: CHS10008

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 ケミカルセンサ研究会

発行日: 2010/06/17

タイトル(英語): Monitoring of surface treatment effects using a quartz crystal microbalance with sputter-coated organic film

著者名: 松本 裕之(岩崎電気),吉野 潔(岩崎電気),松岡 幹彦(岩崎電気),岩崎 達行(岩崎電気),木下 忍(岩崎電気),野田 和俊(産業技術総合研究所),岩森 暁(東海大学)

著者名(英語): Matsumoto Hiroyuki(Iwasaki Electric Co.,Ltd.),Yoshino Kiyoshi(Iwasaki Electric Co.,Ltd.),Matsuoka Mikihiko(Iwasaki Electric Co.,Ltd.),Iwasaki Tatsuyuki(Iwasaki Electric Co.,Ltd.),Kinoshita Shinobu(Iwasaki Electric Co.,Ltd.),Noda Kazutoshi(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)),Iwamori Satoru(Tokai University)

キーワード: QCM法|スパッタ成膜有機薄膜|原子状酸素|UV光|quartz crystal microbalance|sputter-coated organic film|atomic oxygen|ultraviolet

要約(日本語): 本研究では、低圧水銀UVランプ下における表面処理効果をスパッタ法で成膜した有機薄膜を検知体として用いたQCM法でモニタリングすることを試みた。原子状酸素雰囲気下における有機薄膜のエッチングをQCMで精度良く検出できることが判明し、また各種の解析より、エッチングに対する185nm帯の真空紫外光の寄与も明らかとした。

要約(英語): We have been investigating the monitoring of surface treatment effects under ultraviolet lamp utilizing a quartz crystal microbalance with organic film. The film erosion mechanism was discussed here based on the analysis results and a role of vacuum ultraviolet(185nm) was also revealed.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 787 Kバイト

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