導電膜を用いたSTMによる微細加工の研究

カテゴリ: 部門大会

論文No: GS1-1

グループ名: 【C】平成14年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集

発行日: 2002/09/02

タイトル(英語): Research of the micro-machining by STM using the electric conduction film

著者名: 丸山 直樹(芝浦工業大学),菊地 裕介(芝浦工業大学),大塚健一 (芝浦工業大学),米井 健治(芝浦工業大学),板谷太郎 (産業技術総合研究所)

著者名(英語): Naoki Maruyama(Shibaura Inst. Of Tech.),Yusuke kikuchi(Shibaura Inst. Of Tech.),Kenichi Ohtsuka(Shibaura Inst. Of Tech.),Kenji Yonei(Shibaura Inst. Of Tech.),Taro Itatani(National Inst. Of AIST)

キーワード: STMリソグラフィー|走査型トンネル顕微鏡レジスト|レジスト|プローブ|STM lithography|scanning　tunnel microscope|electric conduction film|resist|probe

要約(日本語): 高集積化が進んでいる中、次世代の技術として電子線リソグラフィーが注目されている。

しかし、電子線リソグラフィーは入射する電子が高エネルギーなためレジスト内部やその下の基板内での散乱や電子の帯電等の解像度が低下してしまう欠点を持つ。

本研究ではSTM探針を電子線源として低エネルギーの電子線リソグラフィーを行った。STMの低エネルギーな電子を利用することで解像度の劣化を問題とすることでなくリソグラフィーが可能と考えられる。また、レジスト上に導電膜を用いることでプローブのレジスト中への侵入や電子の帯電を防ぎ、微細なパターン形成が可能であると考えられる。

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