ナノレベルの平滑めっき膜の検討

カテゴリ: 部門大会

論文No: GS1-2

グループ名: 【C】平成15年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集

発行日: 2003/08/29

タイトル(英語): Study for flat electrodeposition film for nano-size

著者名: 齋藤美紀子(早稲田大学),筒井謙(早稲田大学),水野潤(早稲田大学),江面知彦(早稲田大学),徳田正秀(早稲田大学),小野里陽正(早稲田大学),小泉寿子(早稲田大学),和田恭雄(早稲田大学),南風盛将光(東京工業大学),鯉沼秀臣(東京工業大学)

著者名(英語): Mikiko saito(Waseda University),Ken Tsutsui(Waseda University),Jun Mizuno(Waseda University),Tomohiko Edura(Waseda University),Masahide Tokuda(Waseda University),Harumasa Onozato(Waseda University),Toshiko Koizumi(Waseda University),Yasuo Wada(Waseda Univ)

キーワード: めっき|平滑|ナノ電極ナノ電極|electrodeposition|flat|nano-electrode

要約(日本語): ナノレベルの精密めっきを実現する為、めっき膜表面の平坦性、粒径の検討を行った。溶液の拡散律速は下地の凹凸の影響をこの上に形成するめっき膜の凹凸に反映させることから、めっき液を攪拌しながらめっきを行うことが行われている。一方、拡散律速に比較し、表面での電荷移行が律速の場合にも平滑な膜が得られる。本発表では、これらを踏まえ、ナノオ-ダ-の電極、パタ-ンへ平滑にかつ制御性よくめっきを行うことを目的とし、さらなる平滑なめっき表面になる条件の検討を行った結果について報告する。

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