導電膜を用いたSTMによる微細加工の研究

カテゴリ: 部門大会

論文No: GS2-1

グループ名: 【C】平成15年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集

発行日: 2003/08/29

タイトル(英語): Research of the Micro-Machining by STM Using the Electric Conduction Film

著者名: 佐竹 寿和(芝浦工業大学),丸山 直樹(芝浦工業大学),菊地 祐介(芝浦工業大学),米井 健治(芝浦工業大学),板谷太郎 (産業技術総合研究所)

著者名(英語): Toshikazu Satake(Shibaura Institute of Technology),Naoki Maruyama(Shibaura Institute of Technology),Yusuke Kikuchi(Shibaura Institute of Technology),Kenji Yonei(Shibaura Institute of Technology),Taro Itatani(National Institute of Advanced Industrial Scien)

キーワード: 導電膜|STM|リソグラフィーリソグラフィー|conduction film|STM|lithography

要約(日本語): LSIの高集積化が進み、ナノスケールでの新技術が求められている。電子線リソグラフィーは既にマスク作製等の実用化され、注目されている。しかしながら、電子線では照射される電子ビームが高エネルギーなため、近接効果や電子の帯電等により解像度が低下する欠点を持つ。〈p〉

本研究ではSTM探針を電子線源として低エネルギーの電子線リソグラフィーを行った。STMの低エネルギーな電子を利用することで解像度の劣化を問題とすることなくリソグラフィーが可能と考えられる。さらに、レジスト上に導電膜を用いることでプローブのレジスト中への侵入や電子の帯電を防ぎ、微細なパターン形成が可能であると考えられる。

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