RFマグネトロンスパッタリング法により作製した硫酸鉛薄膜のXPS解析

カテゴリ: 部門大会

論文No: GS3-4

グループ名: 【C】平成18年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集

発行日: 2006/09/05

タイトル(英語): XPS analysis of the Lead Sulfate film by RF Magnetron Sputtering method

著者名: 三木 晋作(関東学院大学),佐々木 孝明(関東学院大学),島田 和宏(関東学院大学),加藤 ひとし(関東学院大学),難波 典之(関東学院大学),平松 友康(関東学院大学)

著者名(英語): Shinsaku Miki(Kanto Gakuin University),Takaaki Sasaki(Kanto Gakuin University),Kazuhiro Shimada(Kanto Gakuin University),Hitoshi Katou(Kanto Gakuin University),Noriyuki Nanba(Kanto Gakuin University),Tomoyasu Hiramatsu(Kanto Gakuin University)

キーワード: 硫酸鉛|薄膜|スパッタリング|XPS|Lead Sulfate|film|Sputtering|XPS

要約(日本語): RFマグネトロンスパッタリング法を用いて母体制御型の感湿材料である硫酸鉛の薄膜をAs-Grownにて作製する。母体制御型材料を使う理由として化学吸着により水分子を吸着させるため脱離が容易で感湿応答性も良いからである。

過去の報告例よりX線回折装置を用いて薄膜の結晶性を調べた。この結果より硫酸鉛結晶薄膜を作製する事が出来た。また、表面状態を走査型電子顕微鏡にて調べた結果緻密な平面である事が確認出来た。感湿性を測定した結果良好な感湿応答性を示した。

今回はいまだ未知である硫酸鉛の分子構造を解明する為にX線光電子分光法を用いて作製した薄膜の化学状態の分析について報告する。

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