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ニッケル皮膜形成に及ぼす有機添加剤の合成とその影響

ニッケル皮膜形成に及ぼす有機添加剤の合成とその影響

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カテゴリ: 部門大会

論文No: MC2-1

グループ名: 【C】平成18年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集

発行日: 2006/09/05

タイトル(英語): Synthesis and Influence of Organic Additives on Nickel Film Formation.

著者名: 野村 太郎(関東学院大学),中丸 弥一郎(関東学院大学),本間 英夫(関東学院大学),香西 博明(関東学院大学)

著者名(英語): Taro Nomura(Kantogakuin University),Yaichiro Nakamaru(Kantogakuin University),Hideo Honma(Kantogakuin University),Hiroaki Kouzai(Kantogakuin University)

キーワード: 電気めっき|ニッケル|有機添加剤|異方性析出|Electro deposition|Nickel|Organic additive|Anisotropic deposition

要約(日本語): IC分野における動作確認用プローブカード製造の生産性向上を目的として、電気ニッケルめっきによるプローブ作製手法の検討が行われている。それは薄膜レジストパターンでバンプを形成する時に、レジスト表面より高くバンプを成長させる手法である。しかし、めっきは等方的に成長するため、レジスト上では水平方向へ広がってしまう。今後の狭ピッチ化に対応するため、添加剤により水平方向への成長を抑制し、高さ方向への成長を促進させることが必要である。そこで、本研究では様々な有機添加剤を合成し、ニッケルの成長に及ぼす影響について検討した。

PDFファイルサイズ: 1,865 Kバイト

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