レーザープラズマ軟X線による石英ガラスのナノ加工

カテゴリ: 部門大会

論文No: TC2-1

グループ名: 【C】平成18年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集

発行日: 2006/09/05

タイトル(英語): Nanomachining of Quartz Glass Using Laser Plasma Soft X-rays

著者名: 牧村 哲也(筑波大学),内田 智(筑波大学),藤森 隆成(筑波大学),新納 弘之(産業技術総合研究所),村上 浩一(筑波大学)

著者名(英語): Tetsuya Makimura(Univiersity of Tsukuba),Satoshi Uchida(Univiersity of Tsukuba),Takashige Fujimori(Univiersity of Tsukuba),Hiroyuki Niino(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Kouichi Murakami(Univiersity of Tsukuba)

キーワード: レーザー生成プラズマ|ナノ加工|シリカガラス|極端紫外光|laser produced plasma|nanomachining|silica glass|EUV

要約(日本語): レーザープラズマ軟X線を用いた石英ガラスの微細加工法について研究した. 軟X線は,Taターゲットに, 波長が 532 nm, パルス当たりのエネルギーが 600 mJ/pulse, パルス幅が 7 ns の Nd:YAG レーザー光を照射することで発生した. この軟X線を楕円ミラーを用いて合成石英ガラスに照射した. この楕円ミラーは, 波長が 10 nm の軟X線を効率よく集光できるように設計してある. 軟X線のフルエンスを制御することにより, 0.2 nm/shot から 150 nm/shot の範囲でアブレーション加工が可能であることを明らかにした. さらに, 幅が 50 nm のコンタクトマスクを用いることで, 50 nm の幅の溝を石英ガラス上に作製できることを明らかにした. 以上の研究により, レーザープラズマ軟X線により実用的な石英ガラスのナノ加工法を確立できた.

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