電子ビーム蒸着法によるBixTey系薄膜の作製と評価

カテゴリ: 部門大会

論文No: GS1-2

グループ名: 【C】平成19年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集

発行日: 2007/09/04

タイトル：電子ビーム蒸着法によるBi_xTe_y系薄膜の作製と評価

タイトル(英語): Characterization of Bi_xTe_y thin films prepared by electron beam evaporation method

著者名: 井野 友哉(神奈川大学),山口栄雄 (神奈川大学)

著者名(英語): Tomoya Ino(Kanagawa University),Shigeo Yamaguhi(Kanagawa University)

キーワード: ビスマステルル|アンチモン|赤外線赤外線|thin film|infrared　seosor

要約(日本語): われわれは、Bi₂Te₃が遠赤外領域に遮断波長を有することに着目し、遠赤外線センサとしての可能性を探ることを目的とし研究を行ってきた。本研究では、Bi_xTe_y系薄膜を電子ビーム真空蒸着法により作製し、黒体炉を使用した測定系を用い、その光導電効果を調べ、赤外線センサとしての可能性を定量的に評価することを目指した。黒体放射の有無による出力電圧の変化量は、黒体炉温度が1000℃のとき、Bi₂Te_2.4薄膜では0.27[mV]となったのに対し、Bi₂Sb_0.5Te_2.7の混晶薄膜では0.99[mV]となった。今回の実験では、Sbの割合を大きくするほど、出力電圧の変化量は大きくなることがわかった。

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