共起ヒストグラムを用いた欠陥画像分類に関する検討

カテゴリ: 部門大会

論文No: TC3-3

グループ名: 【C】平成19年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集

発行日: 2007/09/04

タイトル(英語): Study of Defects classification system using Co-occurrence Histogram

著者名: 林 純一郎(香川大学),伊賀 哲平(香川大学),田中 崇輝(香川大学),秦 清治(香川大学)

著者名(英語): Jun-ichiro Hayashi(Kagawa University),Teppei Iga(Kagawa University),Takateru Tanaka(Kagawa University),Seiji Hata(Kagawa University)

キーワード: 共起ヒストグラム|欠陥分類|外観検査外観検査|Co-occurrence Histogram|Defect classification|Visual Inspection

要約(日本語): 印刷物やフィルムの生産ラインでは,生産ラインの高速化や高性能化に伴い,品質管理の高信頼化を目的とした外観検査装置が導入され成果を上げている.しかしこれらは対象の良否を判定するのみのものが多く,エッジがぼやけた欠陥や画像全体に複数存在する欠陥は正確に認識できないなど,十分な精度が得られないという課題がある.本稿ではこれらの欠陥パターンの中から周期的に斑状模様が分布している欠陥を評価する一手法として,共起ヒストグラムを用いた欠陥分類手法を提案し,その有効性について報告する.

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