プラズモン増強場を用いた光ナノ加工技術の開発

カテゴリ: 部門大会

論文No: TC3-2

グループ名: 【C】平成22年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集

発行日: 2010/09/02

タイトル(英語): Development of nano-photolithography techniques using plasmonic near-field

著者名: 上野 貢生(北海道大学,JST-さきがけ)

著者名(英語): Kosei Ueno(Hokkaido University,PRESTO-JST)

キーワード: プラズモニクス|リソグラフィー|金ナノ微粒子金ナノ微粒子|plasmonics|lithography|gold nanoparticles

要約(日本語): 光の波長よりも小さい金属ナノ微粒子に光を照射すると、局在表面プラズモン共鳴が誘起され、回折限界よりも遥に小さい領域に光を局在化させることが可能である。金や銀などの金属ナノ構造は、光電場をナノメートルの空間に局在化させることが可能なことから、リソグラフィー技術に応用が期待されている。本発表では、プラズモン共鳴を利用した光リソグラフィー技術について検討を行った最近の研究成果について述べる。

PDFファイルサイズ: 3,769 Kバイト