フェムト秒レーザ励起増強近接場光によるナノプロセシング

カテゴリ: 部門大会

論文No: TC3-3

グループ名: 【C】平成22年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集

発行日: 2010/09/02

タイトル(英語): Resonant Plasmon Polaritons and Mie Scattering for Nano-processing using Femtosecond Laser

著者名: 寺川 光洋(慶應義塾大学),田中 悠人(慶應義塾大学),小原 豪(慶應義塾大学),銭高 明(慶應義塾大学),小原 實(慶應義塾大学)

著者名(英語): Mitsuhiro Terakawa(Keio University),Yuto Tanaka(Keio University),Go Obara(Keio University),Akira Zenidaka(Keio University),Minoru Obara(Keio University)

キーワード: 近接場光加工|表面プラズモン|ミー散乱|フェムト秒レーザ|near-field processing|surface plasmon|Mie scattering|femtosecond laser

要約(日本語): 金属微粒子および誘電体微粒子をフェムト秒レーザで励起すると、非伝搬性の近接場光の増強部がナノスケールで局在する。この増強局在近接場光により、シリコンおよびガラス基板表面にナノホールアレーを作製した実証実験とその理論解析について発表する。また、金属微粒子と誘電体微粒子の近接場光の増強特性の相違についても述べる。当該方法は大気中において高スループットでナノスケールの加工が出来る利点を備えている。

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