レーザーを用いた酸化物薄膜の作製とグリーンデバイスへの応用展開

カテゴリ: 部門大会

論文No: OS11-4

グループ名: 【C】平成23年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集

発行日: 2011/09/07

タイトル(英語): Preparation of Oxide Thin Films and Their Green Device Applications

著者名: 土屋 哲男(産業技術総合研究所),中島 智彦(産業技術総合研究所),西川 雅美(産業技術総合研究所),相馬 貢(産業技術総合研究所)

著者名(英語): Tetsuo Tsuchiya(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Tomohiko Nakajima(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Masami Nishikawa(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Mitsugu Sohma(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology)

キーワード: 酸化物|薄膜|レーザー|レーザーアブレーション|塗布光照射法レーザーCVD|oxide|thin film|laser|Laser ablation|Laser Assisted Metal Organic DepositionLaser CVD

要約(日本語): 低炭素化社会の構築には、太陽電池やリチウム電池、パワー半導体、省エネ電子・光デバイスなどのグリーンデバイスの開発が必要である。革新的なグリーンデバイスの創製には、新材料開発、薄膜・積層技術開発が重要な課題であるが、レーザープロセッシングは、それらの課題解決に有効なツールである。本講演では、材料創生のための種々のレーザープロセッシング(レーザーアブレーション、レーザーＣＶＤ、塗布光照射法など）と、それらを用いたグリーンデバイスなどの材料・薄膜・デバイス開発について紹介する。

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