誘導結合プラズマ支援型非平衡マグネトロンスパッタ法により作製したNi薄膜に及ぼすイオン照射の効果

カテゴリ: 部門大会

論文No: GS12-7

グループ名: 【C】平成24年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集

発行日: 2012/09/05

タイトル(英語): Effect of Ion Irradiation on the Properties of Ni Films Using Unbalanced Magnetron Sputtering Assisted by Inductively Coupled Plasma

著者名: 幸田龍典 (広島工業大学),沖 英明(広島工業大学),瀬田 悠基(広島工業大学),豊田 宏(広島工業大学)

著者名(英語): Tatsunori Koda(Hiroshima Institute of Technology),Hideaki Oki(Hiroshima Institute of Technology),Yuki Seta(Hiroshima Institute of Technology),Hiroshi Toyota(Hiroshima Institute of Technology)

キーワード: イオン照射効果|非平衡マグネトロンスパッタ法|誘導結合プラズマ|柔軟性素材|Ni薄膜原子間力顕微鏡|Effect of ion irradiation|Unbalanced magnetron sputtering|Inductively coupled plasma|Flexible material|Ni filmAtomic force microscopy

要約(日本語): 近年,電子デバイスの応用範囲の拡大を受け,柔軟性素材など樹脂基板上への成膜ニーズが高まっている.イオン照射効果を高めるために開発された誘導結合プラズマ支援型アンバランスマグネトロンスパッタ法を用い,ソレノイドコイルの励磁電流をパラメータとし,柔軟性素材にNi薄膜を成膜した.基板に向かう磁束密度変化が及ぼすイオンアシスト効果の影響をNi薄膜の物性評価から検討した.結果として,磁束密度(Bc)を大きくすると,基板に入射するイオン束の増加により,イオン電流は増加した.また,原子間力顕微鏡測定によるNi薄膜の平均表面粒径は,磁場を加えない通常のマグネトロンスパッタ法で約37.0 nm, Bc=1 mT, 3 mT, 5 mTに対して,それぞれ約48.7 nm, 約47.3 nm, 約54.9 nmであった.このことから,磁束変化に伴いイオン照射効果が高められ,基板上での表面拡散により粒径成長が促進されたことが示唆される.

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