エレクトロマイグレーションを考慮したLSI設計手法

カテゴリ: 部門大会

論文No: PS6-5

グループ名: 【C】平成24年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集

発行日: 2012/09/05

タイトル(英語): LSI Design Method Considered Interconnect Electromigration

著者名: 蝦名 啓佑(弘前大学),星 誠(弘前大学),渡邊 眞之(弘前大学),黒川 敦(弘前大学)

著者名(英語): Keisuke Ebina(Hirosaki University),Makoto Hoshi(Hirosaki University),Masayuki Watanabe(Hirosaki University),Atsushi Kurokawa(Hirosaki University)

キーワード: エレクトロマイグレーション|配線|信頼性|物理設計|電流密度|electromigration|interconnect|reliability|physical design|current density

要約(日本語): 経時劣化によるLSIの信頼性はトランジスタと配線への影響に分けられる。配線ではテクノロジ・スケーリングにつれて、信号配線に対するエレクトロマイグレーション（EM）起因の経時劣化が問題視されてきている。本発表ではEMにより危険になる箇所を明確にし、デジタル回路部の信号線EMに対する解析結果および設計対策方法を提示する。

PDFファイルサイズ: 3,996 Kバイト