超音波マイクロスペクトロスピー技術によるTiO2-SiO2超低膨張ガラスのゼロCTE温度評価

カテゴリ: 部門大会

論文No: TC1-6

グループ名: 【C】平成24年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集

発行日: 2012/09/05

タイトル：超音波マイクロスペクトロスピー技術によるTiO₂-SiO₂超低膨張ガラスのゼロCTE温度評価

タイトル(英語): Evaluation of Zero-CTE Temperature of TiO₂-SiO₂ Ultra-Low-Expansion Glass by Ultrasonic Microspectroscopy Technology

著者名: 荒川 元孝(東北大学),大橋雄二 (東北大学),丸山 由子(東北大学),櫛引 淳一(東北大学),山田 修史(産業技術総合研究所)

著者名(英語): Mototaka Arakawa(Tohoku University),Yuji Ohashi(Tohoku University),Yuko Maruyama(Tohoku University),Junichi Kushibiki(Tohoku University),Naofumi Yamada(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology)

キーワード: 超音波マイクロスペクトロスコピー技術|TiO₂-SiO₂超低膨張ガラス|線膨張係数|音速測定|極端紫外線リソグラフィー|ultrasonic microspectroscopy technology|TiO₂-SiO₂ultra-low-expansion glass|coefficient of thermal expansion|velocity measurement|extreme ultraviolet lithograhphy

要約(日本語): 極端紫外線リソグラフィー(EUVL)システムのフォトマスクブランクスやミラーの基体材料として、所望の温度範囲で線膨張係数(CTE)が0±5 ppb/K以内となる超低膨張(ULE)ガラスが要求されている。EUVLの量産機においては、光源の出力が高くなるため、ミラー各段やフォトマスク基板に要求されるゼロCTE温度T(zero-CTE)は異なる。TiO₂-SiO₂ ULE ガラスのT(zero-CTE)は、TiO₂濃度C(TiO₂)の他に、仮想温度T_F、OH濃度C(OH)に依存する。本報では、TiO₂-SiO₂ガラスのT(zero-CTE)、音響特性とC(TiO₂)、T_F、C(OH)の間の関係を求めた。C(TiO₂)：6-9 wt%、T_F：770-1110℃、C<(OH)：0-1000 wtppmにおいて、-74℃ 145℃のT(zero-CTE)を有するTiO₂-SiO₂ ULEガラスが得られる。

PDFファイルサイズ: 6,342 Kバイト