スパッタ法による酸化物透明導電膜の低温形成法及びその問題点

カテゴリ: 部門大会

論文No: OS8-2

グループ名: 【C】平成26年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集

発行日: 2014/09/03

タイトル(英語): Preparation and Problems of Transparent Conductive Oxide Films Deposited at Low-Temperature by Sputtering Method

著者名: 清水 英彦(新潟大学)

著者名(英語): Hidehiko Shimizu(Niigata University)

キーワード: 酸化物透明導電膜|スパッタ法|低温堆積低温堆積|Transparent Conductive Oxide Films|Sputtering Method|Low-Temperature Deposition

要約(日本語): 近年，酸化物透明導電（TCO）膜は，フラットパネルディスプレイや太陽電池などの透明電極として広く利用されている。このTCO材料として，多く用いられているのが，ITOである。また，ITOの代替材料としてZnO系材料などが検討されている。このTCO膜の作製にはスパッタ法が広く用いられている。しかし，スパッタ法では，高エネルギー粒子が基板上の膜表面に衝突し，膜にダメージを与え，基板温度を上昇させてしまう。このため，スパッタ法により室温程度の低温にてTCO膜を形成することは困難である。一方，近年，加工性の良さなどから，プラスチック基板上に低抵抗なTCO膜を堆積する要求が高まっている。しかし，アクリルの様なプラスチックは耐熱性に劣ることから，低温製膜が必要である。そこで，本講演では，ITO及びAZO膜のスパッタ法による低温形成及び低温度にて作製されたITOとAZO膜の問題点について報告する。

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