組成の違いによるTiHfN合金膜のキャラクタリゼーション

カテゴリ: 部門大会

論文No: GS4-2

グループ名: 【C】平成29年電気学会電子・情報・システム部門大会講演論文集

発行日: 2017/09/06

タイトル(英語): Characterization of TiHfN alloy film with various composition

著者名: 佐藤 勝(北見工業大学),武山 真弓(北見工業大学)

著者名(英語): Masaru Sato|Mayumi B.Takeyama

キーワード: TiHfN|合金膜|TiHfN|alloy film

要約(日本語): 集積回路の分野において、高抵抗なWプラグから低抵抗なCuプラグに置き換えることが望まれており、Cuの拡散を抑制する高信頼性なバリヤを実現させるために、我々は、TiHfN膜の適用を提案する。TiNとHfNは同じNaCl構造であり、どちらもIVa族元素の窒化物であることから、TiHfN膜は合金でありながら、単体の金属窒化物のように振る舞うことが想定される。そこで本研究では、組成を変えた場合のTiHfN膜の特性を評価したので、当日報告する。

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