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低温作製されたZrNx膜の絶縁特性

低温作製されたZrNx膜の絶縁特性

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カテゴリ: 部門大会

論文No: PS1-7

グループ名: 【C】平成30年電気学会電子・情報・システム部門大会プログラム

発行日: 2018/09/05

タイトル(英語): Electrical Insulation Characteristics of ZrNx Films Deposited at Low Temperatures

著者名: 庄司 琢真(北見工業大学),佐藤 勝(北見工業大学),武山 真弓(北見工業大学)

著者名(英語): Takuma Shouji|Masaru Sato|Mayumi B.Takeyama

キーワード: 特性|絶縁膜|Characterization|Insulating Films

要約(日本語): 我々は,これまで種々の手法により絶縁膜を作製し,得られた膜の特性評価を行ってきた。しかしながら,得られた膜が電気的に絶縁性を持つ膜であるかの詳細については十分検討していなかったことから,本発表では,得られた膜の絶縁特性評価について報告する予定である。

PDFファイルサイズ: 192 Kバイト

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