レーザー干渉パターン加工法の最近の進展
レーザー干渉パターン加工法の最近の進展
カテゴリ: 部門大会
論文No: TC8-1
グループ名: 【C】2019年電気学会電子・情報・システム部門大会プログラム
発行日: 2019/08/28
タイトル(英語): Recent progress on interference laser processing technique
著者名: 中田 芳樹(大阪大学),小坂 悠起(大阪大学),林 英輝(大阪大学),宮永 憲明(レーザー技術総合研究所),大澤 一仁(村田製作所),吉田 匡孝(大阪ガス),奈良崎 愛子(産業技術総合研究所),坪井 泰之(大阪市立大学),東海林 竜也(大阪市立大学)
著者名(英語): Yoshiki Nakata|Yuki Kosaka|Eiki Hayashi|Noriaki Miyanaga|Kazuhito Osawa|Masataka Yoshida|Aiko Narazaki|Yasuyuki Tsuboi|Tatsuya Shoji
キーワード: レーザー|干渉パターン|レーザープロセシング|ナノマテリアル|周期構造ビーム整形|laser|interference pattern|laser processing|nanomaterial|lattice structurebeam shaping
要約(日本語): 我々は,レーザーの干渉パターン加工を用いた様々な周期配列ナノ・マイクロ構造の作製及び応用に関する研究を進めている。均一なナノ構造を作製するために,空間光変調器(SLM)及び4f光学系を応用したビーム整形法において,空間周波数フィルタリングを最適化する事で整形精度を格段に向上した(edge steepness?20μm)[1]。また,光輻射圧を用いた周期配列カイラル構造の形成[2],干渉パターンを用いたレーザー誘起ドット転写(LIDT)など最新の成果について発表を行う。[1] Y. Nakata, K. Osawa, N. Miyanaga, Scientific Reports, 9, 4640 (2019).[2] Y. Nakata, M. Yoshida, N. Miyanaga, Scientific Reports, 8, 13448 (2018).
PDFファイルサイズ: 1,392 Kバイト
受取状況を読み込めませんでした
