商品情報にスキップ
1 1

直流高電界印加によりポリイミドフィルム内に形成される空間電荷と絶縁破壊の関係

直流高電界印加によりポリイミドフィルム内に形成される空間電荷と絶縁破壊の関係

通常価格 ¥330 JPY
通常価格 セール価格 ¥330 JPY
セール 売り切れ
税込

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: DEI09069

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 誘電・絶縁材料研究会

発行日: 2009/03/24

タイトル(英語): Relationship between breakdown strength and space charge formation in polyimide film under dc high electric field

著者名: 岸 佳宏(武蔵工業大学),橋本 卓也(武蔵工業大学),三宅 弘晃(武蔵工業大学),田中 康寛(武蔵工業大学),高田 達雄(武蔵工業大学)

著者名(英語): Yoshihiro kishi(Musashi Institute of Technology),Takuya Hashimoto(Musashi Institute of Technology),Hiroaki Miyake(Musashi Institute of Technology),Yasuhiro Tanaka(Musashi Institute of Technology),Tatuo Takada(Musashi Institute of Technology)

キーワード: 空間電荷|パルス静電応力法|ポリイミド|絶縁破壊|Space charge|PEA method|Polyimide|Breakdown

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,601 Kバイト

販売タイプ
書籍サイズ
ページ数
詳細を表示する