直流高電界下でポリイミドフィルム内に蓄積する空間電荷と絶縁破壊の関係
直流高電界下でポリイミドフィルム内に蓄積する空間電荷と絶縁破壊の関係
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: DEI12067
グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 誘電・絶縁材料研究会
発行日: 2012/03/14
タイトル(英語): Rrelationship between space charge accumulation and breakdown in polyimide film under high dc electric field
著者名: 田中 康寛(東京都市大学),石井 智久(東京都市大学),瀧脇 尚賢(東京都市大学),菊池 俊一郎(東京都市大学),三宅 弘晃(東京都市大学)
著者名(英語): Tanaka Yasuhiro(Tokyo City University),Ishii Tomohisa(Tokyo City University),Takiwaki Takamasa(Tokyo City University),Kikuchi Shunichiro(Tokyo City University),Miyake Hiroaki(Tokyo City University)
キーワード: ポリイミド|高温高湿|高電界|空間電荷|絶縁破壊|polyimide|high temperature and high humidity|high electric field|space charge|breakdown
要約(日本語): 市販のポリイミドフィルムであるカプトンを80°Cにおいて60%もしくは80%の湿度中に1時間放置し、直流高電圧を印加することにより生じる空間電荷と、絶縁破壊時間について調査したところ、絶縁破壊時間と電界には指数関数的な関係があることがわかった。さらに、空間電荷が発生し、絶縁破壊する前の試料について導電率を評価すると、明らかに劣化していることがわかった。
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 849 Kバイト
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