物理蒸着法によるフッ素系高分子薄膜の作製

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: DEI13053

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 誘電・絶縁材料研究会

発行日: 2013/05/31

タイトル(英語): Physical Vapor Deposition of Fluoropolymer Thin Films

著者名: 臼井 博明(東京農工大学)

著者名(英語): Usui Hiroaki(Tokyo University of Agriculture and Technology)

キーワード: フッ素系高分子|テフロン|蒸着|蒸着重合|低屈折率|fluoropolymer|Teflon|vapor deposition|deposition polymerization|low refractive index

要約(日本語): フッ素系高分子は電気的には高絶縁・低誘電率であり、光学的には低損失・低屈折である特徴を有すが、溶媒に難溶である。そこで、低分子材料の直接蒸着あるいはアクリルモノマーの蒸着重合によって、無溶媒でフッ素系高分子薄膜を形成した。

要約(英語): Fluoropolymer thin films were prepared by vapor deposition of low-molecular weight polymers or deposition polymerization of acryl monomers. This enabled solvent-less formation of polymer thin films that have low dielectric constant and low refractive index, and low dissipation.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,103 Kバイト