架橋剤分解残渣の揮発処理が直流高電界下におけるXLPE中の空間電荷形成に与える影響

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: DEI13075

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 誘電・絶縁材料研究会

発行日: 2013/11/01

タイトル(英語): Effect of volatilization Treatment for cross-linking By-products on Space Charge Accumulation in XLPE under DC High Electric field

著者名: 鈴木 均(東京都市大学),豊田 悠(東京都市大学),三宅 弘晃(東京都市大学),田中 康寛(東京都市大学),前野 恭(情報通信研究機構)

著者名(英語): Hitoshi Suzuki(Tokyo city university),Yutaka Toyoda(Tokyo city university),Hiroaki Miyake(Tokyo city university),Yasuhiro Tanaka(Tokyo city university),Takashi Maeno(National Institute of Information and Communications Technology)

キーワード: パルス静電応力法|架橋ポリエチレン|揮発処理|PEA method|Cross linked polyethylene|degassing process

要約(日本語): 架橋ポリエチレンに直流高電圧を印加すると、空間電荷が蓄積し、電界が変歪され、絶縁破壊を引き起こす原因となる可能性があることが指摘されている。本論文では高電界領域においてXLPE中の空間電荷形成が絶縁破壊に与える影響をについて調査した。その結果、熱処理を施すことにより、負電荷蓄積が促進され、絶縁破壊強度が室温で揮発処理を施したXLPEより低下することが確認された。

要約(英語): We tried to observe the space charge accumulation in XLPE by applying high voltage. As the results, the breakdown strength of degassed XLPE at high temperature in vacuum chamber is lower than that of degassed one of room temperature. Therefore, it is assumed that the breakdown strength is affected by both of the residues of the cross-linking by products and the treatment temperature.

原稿種別: 日本語

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