シリコン酸化膜基板上における酸化グラフェン薄膜の形成

カテゴリ: 部門大会

論文No: Y-3

グループ名: 【D】平成23年電気学会産業応用部門大会講演論文集

発行日: 2011/09/06

タイトル(英語): Fabrication of Graphene Oxide Thin Films on SiO2 surfaces

著者名: 伊藤 智昭(横浜国立大学),塚本 貴広(横浜国立大学),荻野 俊郎(横浜国立大学),河村 篤男(横浜国立大学)

著者名(英語): Tomoaki Ito(Yokohama National University),Takahiro Tsukamoto(Yokohama National University),Toshio Ogino(Yokohama National University),Atsuo Kawamura(Yokohama National University)

キーワード: 酸化グラフェン|透明導電膜|APTES| Graphene Oxides|transparent conductive film|APTES

PDFファイルサイズ: 1,254 Kバイト