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プロセス開発・設計におけるESD対策の基本
プロセス開発・設計におけるESD対策の基本
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カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: ECT08029
グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 電子回路研究会
発行日: 2008/03/27
タイトル(英語): Fundamental ESD Protection Strategies in Process Development and Circuit Design
著者名: 加藤 一洋(東芝)
著者名(英語): Kazuhiro Kato(Toshiba Corporation)
キーワード: 静電気放電|ESD|ESD試験|設計ウィンドウ|保護素子|プロセス開発|設計|Electro-Static Discharge|ESD|ESD Test|Design Window|Protection Device|Process Development|Design
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 750 Kバイト
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