ディープサブミクロンプロセスを用いた高電圧インタフェース回路の一構成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ECT08057

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門　電子回路研究会

発行日: 2008/06/13

タイトル(英語): High voltage interface circuit in deep submicron process

著者名: ニコデムス・レディアン (東京工業大学),島崎 直樹(東京工業大学),高木 茂孝(東京工業大学),藤井 信生(東京工業大学)

著者名(英語): Nicodimus Retdian(Tokyo Institute of Technology),Naoki Shimasaki(Tokyo Institute of Technology),Shigetaka Takagi(Tokyo Institute of Technology),Nobuo Fujii(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: 高電圧インターフェース|ディープサブミクロンプロセス|レギュレーティッド・カスコード|フリップト電圧フォロワ|high voltage interface|deep submicron process|regulated cascode|flipped voltage follower

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 557 Kバイト