LSI設計教育におけるプロセス工程とレイアウト設計の相関について
LSI設計教育におけるプロセス工程とレイアウト設計の相関について
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: ECT08103
グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 電子回路研究会
発行日: 2008/11/14
タイトル(英語): About the correlation of a semiconductor process in the LSI design education and the layout design
著者名: 片岡弘行(広島工業大学),山田明宏(A.LSIデザイン),安藤秀幸(ファジィシステム研究所),田中 武(広島工業大学)
著者名(英語): Hiroyuki Kataoka|Akihiro Yamada|Hideyuki Ando
キーワード: 集積回路|半導体プロセス|レイアウト設計|教育|Integrated circuits|Semiconductor process| Layout desgin|Education
要約(日本語): 近年半導体産業ではプロセスの微細化、自動化が進み、設計から製造まで作業が分散化され、全体の工程を理解する技術者が少なくなっている。LSI設計の立場からIC作成の仕組みを理解する教育システムを構築した。
要約(英語): In late years automation advances the tininess of the process by the semiconductor industry, and work is done decentralization of from a design to production, and an engineer understanding a total process decreases. We built the education system which und
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 1,452 Kバイト
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