ナノインプリント法によるPSS（Patterned Sapphire Substrate）の形成技術

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ECT13102

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 電子回路研究会

発行日: 2013/11/22

タイトル(英語): Fabrication Technology of PSS (Patterned Sapphire Substrate) by Nano Imprinting

著者名: ディン タン ニイヤ (株式会社協同インターナショナル),大井 秀雄(株式会社協同インターナショナル)

著者名(英語): Thanh Nghia Dinh (KYODO INTERNATIONAL INC.),Hideo Oi(KYODO INTERNATIONAL INC.)

キーワード: nanoimprint|light emitting diode|patterned sapphire substrate|polydimethylsiloxane|uniformity

要約(日本語): 微細なパターン形状を対象物に転写するナノインプリント技術は複雑な光学系を持たないリソグラフィーであるためハードウェアが非常にシンプルとなる。本研究ではナノインプリント法によりLED発光効率化を狙ったPSS（Patterned Sapphire Substrate)形成技術の実験結果を報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 847 Kバイト