分散型遺伝的アルゴリズムによる抵抗両終端形RCポリフェーズフィルタの自動設計
分散型遺伝的アルゴリズムによる抵抗両終端形RCポリフェーズフィルタの自動設計
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: ECT15050
グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 電子回路研究会
発行日: 2015/07/02
タイトル(英語): Automatic Design of Doubly-terminated RC Polyphase Filter by Using Distributed Genetic Algorithm
著者名: 菅原 誉士紀(群馬大学),高井 伸和(群馬大学),加藤 雅人(群馬大学),関 洋明(群馬大学),鈴木 研人(群馬大学),小林 春夫(群馬大学)
著者名(英語): Yoshiki Sugawara(Gunma university),Nobukazu Takai(Gunma University),Masato Kato(Gunma University),Hiroaki Seki(Gunma university),Kento Suzuki(Gunma university),Haruo Kobayashi(Gunma university)
キーワード: 抵抗両終端形RCポリフェーズフィルタ|RCポリフェーズフィルタ|自動設計|分散型遺伝的アルゴリズム|Doubly-terminated |RC Polyphase Filter|Automatic Design|Distributed genetic algorithm
要約(日本語): 抵抗両終端形でのRCポリフェーズフィルタの設計は一般的に困難であり、未だ確立された設計法は報告されていない。本論文では、抵抗両終端形RCポリフェーズフィルタの自動設計方法を提案する。シミュレーションの結果より、阻止域では減衰、通過域では平坦なゲイン特性を持つ抵抗両終端形RCポリフェーズフィルタが設計できることを確認した。また、設計された回路の素子値広がり、位相特性を確認した。
要約(英語): Designing doubly-terminated RC poly phase filter is generally difficult due to complication of design theory. This paper proposes the method of automatic design of doubly-terminated RC poly phase filter by Distributed Genetic Algorithm. We found that the circuit we designed have ideal gain characteristics, both in the stop-band and in the pass-band from the result of simulation.
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 2,163 Kバイト
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