圧電基板上に装荷したSiO2薄膜の直線集束ビーム超音波材料解析システムによる評価

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ECT18107

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 電子回路研究会

発行日: 2018/12/07

タイトル(英語): Evaluation of SiO2 Thin Films on Piezoelectric Substrates by the Line-Focus-Beam Ultrasonic Material Characterization System

著者名: 末永 凌大(山梨大学),鈴木 雅視(山梨大学),垣尾 省司(山梨大学),大橋 雄二(東北大学),荒川 元孝(東北大学),櫛引 淳一(東北大学)

著者名(英語): Ryota Suenaga(University of Yamanashi),Masashi Suzuki(University of Yamanashi),Shoji Kakio(University of Yamanashi),Yuji Ohashi(Tohoku University),Mototaka Arakawa(Tohoku University),Jun-ichi Kushibiki(Tohoku University)

キーワード: 直線集束ビーム超音波材料解析システム|Line-Focus-Beam Ultrasonic Material Characterization System

要約(日本語): 直線集束ビーム超音波材料解析(LFB-UMC)システムによって測定される減衰測定値は、水中への漏洩損失と材料から受ける音響損失で構成される。減衰測定値から漏洩損失計算値を差し引くとで、薄膜材料の音響損失を評価できる可能性がある。本研究では、LiNbO3、LiTaO3基板上にSiO2薄膜を装荷した構造について、LFB-UMCシステムを用いてLSAW速度と規格化減衰について測定を行い、音響損失評価について検討した。

要約(英語): The phase velocity and normalized attenuation factor of LSAWs on SiO2/128° YX-LN and 36° YX-LT were measured using the Line-Focus-Beam ultrasonic material characterization (LFB-UMC) system. We investigated the acoustical loss of the thin film materials from the difference between the measured normalized attenuation factor and calculated one.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 504 Kバイト