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半導体素子開発から回路・レイアウト設計までを融合するDTCOフローの概要について

半導体素子開発から回路・レイアウト設計までを融合するDTCOフローの概要について

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ECT20088

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 電子回路研究会

発行日: 2020/12/17

タイトル(英語): DTCO flow from semiconductor device development to circuit / layout design

著者名: 桑垣 武司(シルバコ・ジャパン)

著者名(英語): Takeshi Kuwagaki(SILVACO Japan)

キーワード: 半導体素子|回路設計|DTCO|同時最適化|TCAD|EDA|Semiconductor device|circuit design|DTCO|Co-optimization|TCAD|EDA

要約(日本語): それぞれに進化してきた半導体素子開発ツールと回路・レイアウト設計は、ともに融合し共調して利用できることにより、DTCO=デザインとテクノロジの同時最適化を実現します。実績のあるプロセスシミュレータ、デバイスシミュレータとSPICEモデル抽出ツール、SPICE回路シミュレータ、また寄生素子抽出ツールの組み合わせによる実際のフローの例を紹介します。

要約(英語): Well developed TCAD simulators and circuit / layout design tools can be bounded tightly to each other, and realize DTCO = design technology co-optimization. We introduce the latest example of DTCO flow composed by proven process / device simulators, SPICE model extraction, advanced circuit simulator and 3D parasitic extractor.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 713 Kバイト

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