全方位シャンティングアーク放電による窒素を含むアモルファスカーボン薄膜生成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED05148

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　放電研究会

発行日: 2005/12/08

タイトル(英語): Amorphous nitrogenous carbon film with The plasma of all direction shunting arc discharge

著者名: 江古憲一 (同志社大学),行村 建(同志社大学),今井 高文(同志社大学),高木 浩一(岩手大学),向川 政治(岩手大学),藤原 民也(岩手大学),須田 善行(北海道大学)

著者名(英語): Kenichi Ego(Doshisha University),Ken Yukimura(Doshisha University),Takufumi Imai(Doshisha University),Kouichu Takagi(Iwate University),Seiji Mukougawa(Iwate University),Tamiya Fujiwara(Iwate University),Yosiyuki Suda(Hokkaido University)

キーワード: シャンティングアーク放電|アモルファスカーボン薄膜|メタンガス|窒素ガス|XPS 法

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 962 Kバイト