Y 字状フィルタードアーク蒸着装置の開発と銅配線膜の成膜

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED05150

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　放電研究会

発行日: 2005/12/08

タイトル(英語): Development of V-shape Filtered Arc Deposition Apparatus and Cu Film Deposition for Wiring

著者名: 岩崎康浩(豊橋技術科学大学),彦坂博紀(豊橋技術科学大学),田上英人(豊橋技術科学大学),滝川浩史(豊橋技術科学大学),榊原建樹(豊橋技術科学大学),長谷川祐史(株式会社オンワード技研),辻信広(株式会社オンワード技研)

著者名(英語): Hiroki Hikosaka|Yasuhiro Iwasaki|Hirofumi Takikawa|Tateki Sakakibara|Hiroshi Hasegawa|Nobuhiro Tuji

キーワード: Y字状フィルタードアーク蒸着装置(Y-FAD)|配線用Cu 膜|プラズマミキサ|成膜速度|成膜分布

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,260 Kバイト