PBII&D 法によるRF スバッタを用いたカーボン膜およびタングステンカーボン膜生成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED05157

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　放電研究会

発行日: 2005/12/09

タイトル(英語): Preparation of carbon film and tungsten carbon film using a sputter-based carbon ion sources in RF(13.56MHz) PBII&D

著者名: 小野浩之 (同志社大学),行村建 (同志社大学),中村圭二 (中部大学),須田善行 (北海道大学),高木浩一 (岩手大学)

キーワード: スパッタリング|イオン源|誘導結合型RF プラズマ|プラズマイオン注入

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,023 Kバイト