プラズマCVD法により形成される窒素ドープナノダイヤモンド薄膜の構造と電気特性に及ぼす成膜温度の影響

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED06086

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　放電研究会

発行日: 2006/11/10

タイトル(英語): Effect of deposition temperature on structural and electrical properties of nitrogen-doped nanocrystalline diamond films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition

著者名: 堤井君元 (九州大学),武口 浩二(九州大学),池田 知弘(九州大学),劉沖明 (龍華科技大学),丁鰻 (龍華科技大学)

著者名(英語): Kungen Teii(Kyushu University,Japan),Koji Takeguchi(Kyushu University,Japan),Tomohiro Ikeda(Kyushu University,Japan),Chung-Ming Liu(Lunghwa University of Science and Technology,Taiwan,ROC),Kuen Ting(Lunghwa University of Science and Technology,Taiwan,ROC)

キーワード: マイクロ波プラズマ|ナノ結晶|窒素ドープ|アモルファスカーボン

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 741 Kバイト