プラズマイオン注入･成膜法を用いて作製したSiCx膜の特性評価

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED06088

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　放電研究会

発行日: 2006/11/10

タイトル(英語): Properties of SiCx Film Prepared by Plasma-based Ion Implantation and Deposition

著者名: 内海 隆行(兵庫県立大学),奥野 二郎(兵庫県立大学),岡 好浩(兵庫県立大学),藤原 閲夫(兵庫県立大学),八束充保 (兵庫県立大学)

著者名(英語): Takayuki Utsumi(University of Hyogo),Jiro Okuno(University of Hyogo),Yoshihiro Oka(University of Hyogo),Etsuo Fujiwara(University of Hyogo),Mitsuyasu Yatsuzuka(University of Hyogo)

キーワード: プラズマイオン注入成膜法|siCx膜|残留応力|硬度|複合膜|スクラッチ試験

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,012 Kバイト