C8F18プラズマCVDによるa-C:F膜生成とその特性の評価

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED07134

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　放電研究会

発行日: 2007/09/13

タイトル(英語): a-C:F Film Deposition by C8F18 Plasma CVD and Measurement of Their Properties

著者名: 小池 広恵(北海道大学),菅原 広剛(北海道大学),酒井 洋輔(北海道大学),須田 善行(北海道大学),山内 達也(北海道大学)

著者名(英語): Hiroe Koike(Hokkaido University),Hirotake Sugawara(Hokkaido University),Yosuke Sakai(Hokkaido University),Yoshiyuki Suda(Hokkaido University),Tatsuya Yamauchi(Hokkaido University)

キーワード: パーフルオロカーボン|フッ化炭素膜|プラズマCVD|a-C:F|FT-IT|XPS|化学気相堆積|fluorocarbon|polymer film|plasma CVD|amorphous|FT-IR|XPS|chemical vapor deposition

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 723 Kバイト