酸化膜付きSS400表面上における減圧アーク陰極点の移動と軌跡

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED08128

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　放電研究会

発行日: 2008/10/24

タイトル(英語): Movement and Tracking of Low-Pressure Arc Cathode Spots on SS400 Surface with Oxide Layer

著者名: 岩尾 徹(武蔵工業大学),上島進弥 (武蔵工業大学),猪俣 剛(武蔵工業大学),湯本 雅恵(武蔵工業大学)

著者名(英語): Toru Iwao(Musashi Institute of Technology),Shinya Kamishima(Musashi Institute of Technology),Tsuyoshi Inomata(Musashi Institute of Technology),Motoshige Yumoto(Musashi Institute of Technology)

キーワード: 減圧アーク|陰極点|ハイスピードビデオカメラ|酸化膜|low pressure arc|cathode spot|high-speed video camera|oxide layer

要約(日本語): 減圧アーク陰極点の移動や軌跡に及ぼす酸化膜厚の影響は未解明のままである。本論文では、酸化膜や金属バルク表面上での陰極点の動きを減圧アークの陰極点の動きを決定するために測定した。実験に際しては、陰極はSS400の試験片を、陽極は円筒陽極を用いた。雰囲気は、アルゴン1気圧とし、ハイスピードビデオカメラで陰極点の動きを測定した。陰極点は輝度が高いため、NDフィルタを用い、また、得られた画像は、プラズマイメージプロセッシングの手法により、軌跡などを算出した。酸化膜厚は、9.67 umとした。結果として、陰極点の移

要約(英語): The influence of an oxide layer on movement of a cathode spot remains unclear. As described in this paper, the cathode spot movement on the surface of oxide layer and metal surface were measured to determine the cathode spot movement of a low-pressure arc

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 915 Kバイト