大気圧非平衡DCパルスプラズマジェットによる半導体製造過程における洗浄技術の開発

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED09080

グループ名: 【A】基礎･材料･共通部門　放電研究会

発行日: 2009/08/06

タイトル(英語): Development of Cleaning Technology on Semiconductor Equipment Process for Atmospheric-pressure Non-equilibrium DC Pulse Plasma Jet

著者名: 湯地 敏史(宮崎大学),川野 泰和(大分大学),龍口 直人(大分デバイステクノロジー),佐藤慎也 (JASCOエンジニアリング),赤塚 洋(東京工業大学)

著者名(英語): Toshifumi Yuji(University of Miyazaki),Hirokazu Kawano(Oita University),Naoto Tatsuguchi(Oita Device Technology Co.,Ltd.),Shinya Satoh(JASCO Engineering Co.),Hiroshi Akatsuka(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: DCパルス|プラズマジェット|フーリエ変換赤外分光光度計|半導体|金型|DC pulse|Plasma jet|Fourier transform infrared spectroscopy|Semiconductor|Mold

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,283 Kバイト