高密度パルスプラズマ生成用高電圧?大電流パルス電源の開発

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED09115

グループ名: 【A】基礎･材料･共通部門　放電研究会

発行日: 2009/08/08

タイトル(英語): Development of high voltage large current pulse power supply for high energy density pulse plasma generation

著者名: 横田 達也(平和電源),坂本 哲也(平和電源),林 剛(平和電源),豊田 光廣(平和電源),坪井 仁美(ナノテック),平塚 傑工(ナノテック),中森 秀樹(ナノテック),行村 健(同志社大学)

著者名(英語): Tatsuya Yokota(Heiwa Dengen corporation),Tetsuya Sakamoto(Heiwa Dengen corporation),Tsuyoshi Hayashi(Heiwa Dengen corporation),Mitsuhiro Toyota(Heiwa Dengen corporation),Hitomi Tsuboi(Nanotec corporation),Masanori Hiratsuka(Nanotec corporation),Hideki Nakamori(Nanotec corporation),Ken Yukimura(Doshisya University)

キーワード: 大電力パルス電源|高密度パルスプラズマ|大電力パルススパッタ|High-power pulse power supply|High energy density plasma|High-power pulse sputtering

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 730 Kバイト