湿度制御環境下における高周波大気圧プラズマを用いた高分子材料表面処理

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED11042

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電研究会

発行日: 2011/06/04

タイトル(英語): Polymer materials surface treatment using RF atmospheric pressure plasmas under controlled conditions of relative humidity

著者名: 佐藤 拓也(岩手大学),平野 隆大(岩手大学),向川 政治(岩手大学),高木 浩一(岩手大学),藤原 民也(岩手大学)

著者名(英語): Sato Takuya(Iwate university),Hirano Takahiro(Iwate university),Mukaigawa Seiji(Iwate university),Takaki Koichi(Iwate university),Fujiwara Tamiya(Iwate university)

キーワード: 高周波大気圧プラズマ|浮遊電極|相対湿度|親水性|接触角|高分子材料|Radio frequency atmospheric pressure plasma|Floating electrode|Relative humidity|Hydrophilicity|Contact angle|Polymer materials

要約(日本語): 湿度制御環境下において、高周波大気圧プラズマを用いて高分子材料表面のOH終端処理を行った。プラズマの生成には浮遊電極のある平行平板型誘電体バリア放電方式を用い、電源にはRF(13.56MHz)を用いた。プラズマ処理によって高分子材料表面は親水化され、湿度が0％RHにおいて水の接触角は最小となり、酸素含有基の導入に対して、プラズマ処理雰囲気の相対湿度には最適値が存在することが分かった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 582 Kバイト