窒素イオン照射を用いたPTFEの接着力向上-極性基と凹凸の寄与-

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED12039

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電研究会

発行日: 2012/03/09

タイトル(英語): Improvement of Adhesive Strength of PTFE using Nitrogen Ion Irradiated - Contribution of Polar Groups and Roughness-

著者名: 長坂 勇輔(東京都市大学),渡辺 剛志(東京都市大学),岩尾 徹(東京都市大学),湯本 雅恵(東京都市大学)

著者名(英語): Nagasaka Yusuke(Tokyo City University),Watanabe Tsuyoshi(Tokyo City University),Iwao Toru(Tokyo City University),Yumoto Motoshige(Tokyo City University)

キーワード: ＰＴＦＥ|イオン照射|低気圧|接着力|極性基|凹凸

要約(日本語): プリント基板材料として，低誘電率など優れた特性を持つPTFE(PolyTetraFluoroEthylene)が注目されている。しかしPTFEは接着力が乏しく表面改質が必要となる。接着力は極性基の導入と凹凸の形成により，表面エネルギーを高くすることで向上する。低気圧中で発生させた窒素イオンを低エネルギーで照射する方法を用いたところ，極性基導入と0.1μm以下の凹凸が形成された。そこで極性基と凹凸が接着力にどのように寄与するのか，あわせて寄与する凹凸のスケールを検討した。

原稿種別: 日本語

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