市販の金属磨き液で研磨した無酸素銅電極とCu-Cr電極の真空中絶縁破壊特性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED12043

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電研究会

発行日: 2012/03/09

タイトル(英語): Vacuum Breakdown Characteristics for Copper and Cu-Cr Electrodes Processed by Liquid Polishing Agent for Metal

著者名: 城 匡哉(埼玉大学),山納 康(埼玉大学),小林 信一(埼玉大学),齊藤 芳男(高エネルギー加速器研究機構)

著者名(英語): Jo Masaya(Saitama University),Yamano Yasushi(Saitama University),Kobayashi Shinichi(Saitama University),Saito Yoshio(High Energy Accelerator Research Organization)

キーワード: 真空放電|無酸素銅電極|Ｃｕ－Ｃｒ電極|研磨|Vacuum discharge|Copper Electrode|Cu-Cr Electrode|Polishing

要約(日本語): 市販の液状金属磨き剤を用いて表面を鏡面研磨した無酸素銅電極とCu-Cr電極の真空中絶縁破壊試験を行い、それらの絶縁破壊特性を比較した。電極研磨後はアセトンを用いて超音波洗浄を行い、その後真空中熱処理を施した。実験結果は、研磨したCu-Cr電極の方が無酸素銅電極に比べて極端にコンディショニング速度が悪化した。これは、Cu-Cr電極表面に研磨材がより多く残存したためであると考えられる。

要約(英語): Polishing vacuum breakdown characteristics of oxygen - free copper electrodes and Cu-Cr electrodes processed by polishing liquid for metal. Although the average breakdown field of polished electrodes for the 1st to 5th breakdowns improved, breakdown number necessary for conditioning increased. Observation by a secondary electron microscope revealed that there were many small holes on the surface of polished electrodes. In particular, abradant remained in the surface of the polished Cu-Cr electrode. It is thought that these imperfections make vacuum breakdown characteristics worse.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 7,783 Kバイト