パルススパッタペニング放電におけるイオン電流の圧力依存性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ED12155

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電研究会

発行日: 2012/12/15

タイトル(英語): Ion current characteristics to gas pressure of Pulse Sputter Penning Discharge

著者名: 樋口 徹(兵庫県立大学),井上 祐輔(兵庫県立大学),東 欣吾(兵庫県立大学)

著者名(英語): Toru Higuchi(University of Hyogo),Yusuke Inoue(University of Hyogo),Kingo Azuma(University of Hyogo)

キーワード: ハイパワーパルススパッタ|ペニング放電|プラズマイオンプロセス|イオン化率|金属プラズマ|High-Power Pulse Sputter|Penning Discharge|Plasma ion process|Ionization rate|Metal plasma

要約(日本語): パルスペニングスパッタ放電は金属粒子を豊富に含むグロープラズマを生成し、DCスパッタ放電に比べて金属粒子の高いイオン化率を実現する。スパッタ放電プラズマでは、スパッタ粒子の反応やイオン化の過程はガス圧力によって大きな影響を受ける。本報告では、0.1 Paから20 Paの広い圧力領域において、プラズマの圧力依存性を測定した。イオン電流は圧力が大きくなる大きくなり7 Pa 付近で最大となるが圧力とイオン電流との比はガス圧力が低くなると大きくなることが分かった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 5,295 Kバイト